作为瑞典高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）技术领域的重要企业，Ionautics长期深耕于高端涂层设备研发与工艺创新，凭借可靠的技术方案为全球表面工程及PVD（物理气相沉积）行业提供专业设备支撑，在高精度涂层技术工业化应用领域积累了良好的行业口碑。
近日，Ionautics公司再次官宣重要进展——其自主研发的新一代HiPIMS设备HiPSTER 25，已在瑞士高端涂层领域知名企业Swiss PVD完成全流程的安装调试，并顺利实现首次商业化运行。这一成果不仅是双方在高性能薄膜沉积领域技术理念与实践能力的深度协同，更标志着HiPSTER系列核心技术在欧洲高端PVD市场的成功落地，为行业在镀膜效率提升、工艺精准优化及高端应用场景拓展等方面，提供了全新的发展空间与实践路径。
落地Swiss PVD，共筑高端涂层生态
Swiss PVD是一家长期深耕高端表面工程技术的瑞士企业，业务涵盖硬质涂层、功能薄膜与光学应用等多个方向。凭借丰富的薄膜沉积经验与精细化的工艺控制体系，Swiss PVD对设备的稳定性、重复性和过程一致性有着严格要求。
此次将HiPSTER 25引入其生产体系，既为Swiss PVD在拓展高效HiPIMS工艺方面提供了新的技术选择，也为双方深化合作、共同探索高性能薄膜沉积解决方案创造了条件。对Ionautics而言，HiPSTER 25在Swiss PVD的成功部署，是其在高端应用场景中的又一次验证，有助于获得更多工业级应用反馈，进一步推动产品迭代与性能优化。
展开剩余55%技术引领，赋能高效沉积
作为Ionautics最新推出的25 kW级紧凑型HiPIMS脉冲电源，HiPSTER 25面向硬质涂层、功能薄膜、光学镀膜、扩散屏障、电气涂层以及三维结构等多类应用场景设计。通过整体架构升级与关键器件的优化，该设备在沉积效率、稳定性和工艺灵活性方面均实现了进一步提升。其主要特性包括：
• 高效脉冲控制
采用新一代碳化硅（SiC）功率晶体管，具备耐高温、快速开关和低损耗等优势。结合优化后的开关设计，HiPSTER 25可实现最高150 kHz的 HiPIMS 脉冲频率，使放电过程更稳定，并有助于在复杂基材上形成致密、均匀的薄膜结构。
• 双极HiPIMS工艺支持
内置的双极运行模式可在无需额外基底偏压的条件下实现离子加速，适用于致密度和附着力要求较高的涂层应用。用户可通过灵活调节脉冲能量与多项工艺参数，对薄膜质量实现更细致的控制。
• 广泛的工艺兼容性
HiPSTER 25适配多种磁控管与反应式工艺，并集成Ionautics的反应过程控制系统，提高沉积过程的稳定性和成分一致性。在航空航天、医疗器械和汽车制造等对三维涂层均匀性有较高要求的行业中，也展现出良好的工艺适应性。
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